- SK 海力士壟斷高容量?jī)?nèi)存市場(chǎng):14nm級(jí)DDR5 產(chǎn)品良率已達(dá) 90%
- 臺(tái)積電:3nm良率領(lǐng)先業(yè)界 很快比肩5nm
- 三星電子4納米工藝良率接近臺(tái)積電
- 臺(tái)積電3nm良率接近63%,三星4nm良率約70%
- 三星4nm制程良率穩(wěn)定化 開(kāi)始提供MPW服務(wù)
- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜,能大幅度提高5nm芯片良率
- 半導(dǎo)體檢測(cè)量測(cè)設(shè)備行業(yè)研究:芯片良率守護(hù)者,短板突破正當(dāng)時(shí)
- 蘋(píng)果推印度制造再遭重?fù)?,良率僅有50%,中國(guó)制造無(wú)可替代
- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜,能大幅度提高5nm芯片良率
- 芯片制造環(huán)節(jié)良率漸受考驗(yàn),人工智能技術(shù)強(qiáng)勢(shì)出擊