中商情報(bào)網(wǎng)訊：氧化銦錫（IndiumTinOxide，簡(jiǎn)稱(chēng)“ITO”），它是一種由氧化銦和氧化錫粉末按照一定比例混合后，經(jīng)過(guò)一系列的生產(chǎn)工藝加工成型，再高溫?zé)Y(jié)形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體材料。ITO具有高的導(dǎo)電率、優(yōu)異的可見(jiàn)光透過(guò)率、較強(qiáng)的機(jī)械硬度和良好的化學(xué)穩(wěn)定性，主要應(yīng)用領(lǐng)域有平面顯示面板、太陽(yáng)能電池、光學(xué)鍍膜等。ITO靶材是濺射靶材中陶瓷靶材中陶瓷靶材的一種。

ITO靶材市場(chǎng)容量

中國(guó)已成為世界上最大的銦靶材需求國(guó)。2019年至2021年，我國(guó)ITO靶材市場(chǎng)容量從639噸增長(zhǎng)到1002噸，年復(fù)合增長(zhǎng)率為25.22%。根據(jù)中國(guó)光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)液晶分會(huì)分析，未來(lái)2-3年內(nèi)，雖然國(guó)內(nèi)平面顯示行業(yè)的固定資產(chǎn)投資增速將有所放緩，但由于平面顯示行業(yè)存量需求及太陽(yáng)能光伏電池的增量需求，國(guó)內(nèi)ITO靶材市場(chǎng)容量仍將保持一定幅度的增長(zhǎng)。預(yù)計(jì)2022年能達(dá)到1067噸，2024年達(dá)到1207噸。

數(shù)據(jù)來(lái)源：中國(guó)光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會(huì)液晶分會(huì)、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

ITO靶材未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)

1.尺寸大型化

隨著電視、PC等面板面積加速向大尺寸化邁進(jìn)，相應(yīng)的ITO玻璃基板也出現(xiàn)了明顯的大型化的趨勢(shì)，這使得對(duì)ITO靶材尺寸的要求越來(lái)越大。為滿(mǎn)足大面積鍍膜工藝要求，往往需使用多片或多節(jié)小尺寸靶材拼焊成大尺寸靶材，但焊縫的存在會(huì)導(dǎo)致靶材鍍膜質(zhì)量的下降。因此，研發(fā)大尺寸單片（單節(jié)）靶材，減少焊縫數(shù)量成為ITO靶材技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)。

2.高密度化

提高靶材的密度有助于減少毒化現(xiàn)象，并降低電阻率，提高靶材的使用壽命。毒化是指濺射過(guò)程中ITO靶材表面出現(xiàn)凸起物的結(jié)瘤現(xiàn)象，毒化會(huì)導(dǎo)致靶材濺射速率降低，弧光放電頻率增加，所制備的薄膜電阻增加，透光率降低且均勻性變差，此時(shí)必須停止濺射，清理靶材表面或更換靶材。高密度ITO靶材具有較好的熱傳導(dǎo)性和較小的界面電阻，不易在濺射過(guò)程中發(fā)生熱量蓄積，可減少毒化概率。

3.利用率提高

提高靶材利用率一直是靶材制備行業(yè)研究的熱點(diǎn)和難點(diǎn)。在濺射過(guò)程中，ITO平面靶材表面會(huì)形成環(huán)形磁場(chǎng)，并在環(huán)形表面進(jìn)行刻蝕，這使得環(huán)形區(qū)域的中心部分無(wú)法被濺射，導(dǎo)致平面靶材的利用率較低，目前ITO平面靶材的靶壞利用率一般不超過(guò)40%。ITO旋轉(zhuǎn)靶材相較平面靶材在利用率上有較大提升，旋轉(zhuǎn)靶材圍繞固定的條狀磁鐵組件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，使得整個(gè)靶面都可以被均勻刻蝕，提高了靶材的利用率，目前ITO旋轉(zhuǎn)靶材的靶壞利用率可達(dá)70%以上。提高ITO靶材利用率有助于提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本。