眾所周知，在芯片制造中，光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備。

而7nm及以下的芯片芯片制造，EUV光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備，而EUV光刻機(jī)僅ASML一家能夠生產(chǎn)，所以一直以來ASML都是保持著自己的節(jié)奏，不多生產(chǎn)。

這樣EUV光刻機(jī)就是賣方市場(chǎng)，ASML說了算，三星、臺(tái)積電、intel等廠商，要從ASML這里搶，才能夠買到，價(jià)格還高高在上。

2021年，ASML的EUV光刻機(jī)一共只賣出了42臺(tái)，實(shí)際上市場(chǎng)上的需求達(dá)到了60多臺(tái)，但ASML就是不生產(chǎn)這么多出來。

為此，其它廠商也在不斷的努力，想換道超車，通過其它技術(shù)，來替代EUV光刻機(jī)。目前已經(jīng)有三種方案，在有進(jìn)，分別是：1、納米壓印光刻（NIL）；2、直接自組裝（DSA）光刻；3、電子束光刻（EBL）。

其中美國企業(yè)已經(jīng)推出了EBL電子束光刻機(jī)，能夠用于生產(chǎn)0.768nm的芯片；而佳能則押寶NIL光刻機(jī)，并與鎧俠合作，計(jì)劃用于3D NAND閃存生產(chǎn)中；而DSA光刻機(jī)，各大巨頭也是在關(guān)注。

像intel、臺(tái)積電、三星等巨頭，則是三大光刻技術(shù)，都在押注，以免萬一某一種技術(shù)突然崛起，把自己搞得措手不及。

這讓ASML壓力山大，那么怎么辦呢？當(dāng)然是想辦法討好客戶，讓客戶的需求得到滿足，這要客戶就不會(huì)跑掉了。

于是近日ASML公布了自己的一個(gè)計(jì)劃，那就是推動(dòng)產(chǎn)能增長，多產(chǎn)生光刻機(jī)出來，讓客戶都能買到，這樣就不會(huì)想著其它技術(shù)了。

ASML表示，他們計(jì)劃將產(chǎn)能增加到 90 個(gè) EUV 和 600 個(gè) DUV 系統(tǒng)（2025-2026 年），同時(shí)還將 High-NA EUV 產(chǎn)能增加到 20 個(gè)系統(tǒng)（2027-2028 年）。

與2021年42套EUV系統(tǒng)銷量相比，相當(dāng)于EUV光刻機(jī)產(chǎn)能直接增加210%+了，這應(yīng)該是ASML拿出來的最大誠意了。

當(dāng)然，ASML肯定不會(huì)承認(rèn)是怕別的技術(shù)或廠商搶了市場(chǎng)，只說自己是看到市場(chǎng)需求過大，供不應(yīng)求，所以才擴(kuò)產(chǎn)的。

但事實(shí)是，當(dāng)一個(gè)市場(chǎng)，只有一家企業(yè)能提供產(chǎn)品時(shí)，這個(gè)市場(chǎng)就是被壟斷著的，所以ASML就算再增加產(chǎn)能，也一定會(huì)有其它廠商有其它想法。

所以EUV光刻機(jī)的替代方案，一定會(huì)出來的，只是時(shí)間問題，就算ASML產(chǎn)能再高，也一樣阻止不了，你覺得呢？