中商情報網訊：光刻膠又稱光致抗蝕劑，本質是一種感光材料，是電子領域微細圖形加工的關鍵性材料，在半導體、LCD、PCB等行業的生產中具有重要作用。近年來，隨著集成電路的快速發展，光刻膠行業景氣度不斷提高。

市場結構

按照下游應用，光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠、PCB光刻膠，其中，半導體光刻膠主要應用于半導體元器件制作中，市場占比22%。

數據來源：Reportlinker、中商產業研究院整理

市場分布

按曝光波長分，半導體光刻膠按照曝光波長不同可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新興起的EUV光刻膠5大類，高端光刻膠指KrF、ArF和EUV光刻膠。數據顯示，2021年ArFi+ArF光刻膠占全球光刻膠市場規模的比例為48.1%，KrF占比34.7%，G/I線占14.7%。

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競爭格局

從競爭格局來看，日本企業在半導體光刻膠市場占據主導地位，東京應化渣比最高達25%。其次，JSR、日本信越、住友化學占比分別為17%、16%、11%，Dow占比9%。

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