知道光刻機(jī)故事的人都清楚，在ASML之前，日本的尼康、佳能才是老大哥。

不過(guò)在ARF光刻機(jī)時(shí)，也就是采用193nm的干式光刻機(jī)的時(shí)候，發(fā)生了分歧，日系廠(chǎng)商認(rèn)為要繼續(xù)研發(fā)使用波長(zhǎng)更短的光源比如165nm，來(lái)提高光刻分辨率。

但是165nm波長(zhǎng)的光線(xiàn)非常不穩(wěn)定，研究了幾年，大家都沒(méi)進(jìn)展。

這時(shí)臺(tái)積電的林本堅(jiān)站了出來(lái)，表示以前的光刻機(jī)是用空氣做介質(zhì)的。如果采用水為介質(zhì)，利用水的折射，采用193nm的光源，在水的折射下可以等效于134nm，比165nm的光線(xiàn)分辨率更好，還跳過(guò)了165nm這個(gè)難搞的光源。

但尼康、佳能不信，打算一條道走到黑，繼續(xù)研究165nm光源，不用水為介質(zhì)。

而ASML還是小廠(chǎng)，就打算搏一搏，說(shuō)不定單車(chē)變摩托了呢？于是ASML與臺(tái)積電合作，制造以水為介質(zhì)的浸潤(rùn)式光刻機(jī)。

這一搏就成了ASML的翻身之作，第一臺(tái)浸潤(rùn)式光刻機(jī)ARFi制造出來(lái)，采用193nm波長(zhǎng)，但等效于134nm，馬上投入臺(tái)積電的生產(chǎn)線(xiàn)上，效果非常好。

而佳能、尼康不認(rèn)輸，堅(jiān)持不造這種以水為介質(zhì)的光刻機(jī)，于是市場(chǎng)慢慢的全被ASML搶走了，后來(lái)ASML更是造出了EUV光刻機(jī)，獨(dú)家壟斷了光源等等。導(dǎo)致尼康、佳能一蹶不振，再也翻不了身。

后來(lái)尼康認(rèn)錯(cuò)，也開(kāi)始接受現(xiàn)實(shí)，制造浸潤(rùn)式光刻機(jī)，但佳能死都不認(rèn)錯(cuò)，堅(jiān)持不造浸潤(rùn)式光刻機(jī)。如今除了ASML，日本尼康也能夠量產(chǎn)用于生產(chǎn)7nm及以下制程的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，也就是DUV中的ARFI光刻機(jī)。

而佳能則轉(zhuǎn)身研究“納米壓印光刻（NIL）”技術(shù)去了，想要顛覆ASML的EUV光刻機(jī)技術(shù)，要換道超車(chē)。

目前佳能已經(jīng)造出了NIL光刻機(jī)，且已經(jīng)與內(nèi)存廠(chǎng)商鎧俠合作，用于制造內(nèi)存芯片，不過(guò)分辨率還不夠理想，但前方已經(jīng)看到光亮了，佳能表示，很快可以達(dá)到5nm的分辨率。

按照佳能的報(bào)表，2022年光刻機(jī)的營(yíng)收增長(zhǎng)11%。但表示2023年要重金投入光刻機(jī)，產(chǎn)能要提升兩倍，同時(shí)再押注NIL光刻機(jī)技術(shù)，盡快實(shí)現(xiàn)5nm精度。

與ASML不一樣，ASML的光刻機(jī)依賴(lài)美國(guó)的技術(shù)，但日本的光刻機(jī)，不管是尼康的、還是佳能的，基本上都是自主可控的，不需要美國(guó)的技術(shù)，不受美國(guó)的長(zhǎng)臂管轄。

所以我們看到美國(guó)趕緊聯(lián)手日本，來(lái)圍堵中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，就是怕日本賣(mài)光刻機(jī)給中國(guó)。

但不可否認(rèn)的是，雖然美國(guó)已經(jīng)聯(lián)手日本，但日本光刻機(jī)能否卷土重來(lái)可能會(huì)成為現(xiàn)實(shí)，而借助中國(guó)市場(chǎng)，實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的“彎道超車(chē)”，可能也會(huì)是日本光刻機(jī)廠(chǎng)商們的選擇之一，就看籌碼夠不夠了。