由于眾所周知的原因，中國難以獲得先進的光刻機，這導致中國在先進工藝方面一直困難重重，不過中國芯片行業并未因此而停止前進的腳步，而是持續點突破，近日就有消息指出中國在一個芯片環節突破了3納米。

據悉國產EDA廠商概倫電子表示它的EDA已經可以支持7納米、5納米、3納米，由于它的EDA軟件足夠先進，因此獲得了臺積電、三星、中芯國際等諸多主流的芯片代工廠認可，凸顯出它的EDA軟件已具有國際競爭力。

EDA是芯片制造的一個重要環節，美國的新思科技等三家EDA軟件企業壟斷了八成以上的EDA市場，美國阻礙中國芯片發展的一個措施就是限制新思科技等EDA軟件企業為中國芯片行業提供先進的EDA軟件，可見EDA軟件的重要性。

恐怕美國也沒有想到它的做法，結果是加速了中國的EDA軟件發展，除了概倫電子之外，國內還有華大九天等諸多EDA軟件企業積極發展EDA軟件，此前國內企業優先采用新思科技的EDA軟件自然是考慮技術工程師的使用習慣以及生態，美國采取措施后，中國芯片企業開始積極采用國產EDA軟件。

隨著中國的芯片設計企業開始使用國產EDA軟件，臺積電、三星等芯片代工企業為了滿足客戶的要求，自然也開始采用中國的EDA軟件，由此進一步加速完善國產EDA軟件的生態；同時這也能為國產EDA軟件帶來收入，加速中國EDA軟件技術的發展，成為中國的EDA軟件迅速發展的重要推動力。

EDA軟件可謂這幾年在美國壓力下促使中國芯片快速發展的縮影，除了EDA軟件之外，中國在芯片制造的諸多環節都在快速發展，刻蝕機達到了5納米，封裝技術達到了4納米，其他芯片環節也大多達到了14納米，目前限制中國芯片制造行業的主要環節就是光刻機。

國產光刻機如今正努力推進28納米光刻機的發展，一旦28納米光刻機實現量產，那么14納米甚至7納米光刻機都不會成為問題，因為這些光刻機都會采用浸潤式技術，而28納米光刻機已經通過技術驗證，有說法是再有3年時間，中國的先進光刻機就會得以量產。

在芯片技術方面，中國也先后打破了存儲芯片、射頻芯片、GPU芯片等的空白，短短數年時間所取得的進展，讓海外同行瞠目結舌，他們都沒想到中國芯片在美國的壓力下竟然爆發出如此巨大的潛力。

中國芯片行業正是通過一個點一個點突破的方式，先攻克容易突破的技術，最后集中資源攻克技術難度最大的光刻機，一旦光刻機取得突破，中國芯片騰飛的時刻就會到來，這就是從點突破最終實現全面突破。

依托于中國芯片各個行業的共同努力，中國的芯片產業鏈已日益完善，芯片產業鏈的完善代表著中國芯片自主技術研發體系的成型，這對于美國主導全球芯片技術發展方向無疑是巨大的挑戰，美國的做法并無法阻擋中國芯片的發展，反而成為中國芯片前進的動力，推動中國芯片在短短數年時間取得的技術成就超過了過去幾十年。