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三星減產(chǎn)DRAM關鍵原因:研發(fā)松懈,降成本速度減慢?

2023-04-17 來源:網(wǎng)絡整理
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關鍵詞: 光刻設備 SK海力士 三星

4月14日,據(jù)韓國媒體The Elec報導,消息顯示,三星導入更先進制程以降低DRAM成本的速度進一步趨緩,這或許也是三星不得不跟進美光、SK 海力士減產(chǎn)的一個原因。因為,如果能快速引入先進制程,那么降低成本的速度就能快一些,三星或許就不必減產(chǎn),還可趁著產(chǎn)業(yè)景氣衰退之際擴大市占率。


據(jù)報導,三星搶在對手之前采用極紫外光(EUV)光刻設備,可能也是重創(chuàng)利潤的原因。EUV制程昂貴,目前還無法發(fā)揮最大潛能。不過,三星提早采用EUV,未來提升生產(chǎn)力的速率也會比對手快。


對于10nm范圍的DRAM,存儲廠商一般不會披露精確的制程節(jié)點,而是稱之為1x(第一代)、1y(第二代)、1z(第三代)納米。其中,1z大約介于13~11納米。業(yè)者也于最近發(fā)表第四代的1a納米。


根據(jù)集邦科技統(tǒng)計,2022年第四季美光的1a納米DRAM市占率為45.9%、SK海力士為20.8%、三星為5.7%。同期間內(nèi),1z納米DRAM市占排名則依序為三星(46.1%)、SK海力士(32.3%)、美光(29.9%)。美光制造的1a納米 DRAM比競爭對手多,主要是因為該公司并未采用EUV,而是使用多重圖案化(multiple patterning;MP)技術。美光預定2024年才會在1c納米使用EUV。


The Elec引述消息人士指出,三星過去都能搶在對手前克服挑戰(zhàn)、維持領導地位,如今卻頻頻提及EUV和摩爾定律已死,這些其實都是“借口”。部分內(nèi)部人甚至說,過去五年三星在研發(fā)新技術方面有點懈怠;該公司剛開始制造雙棧(double-stack)NAND Flash(V7)時也遇到困難。


三星電子4月7日發(fā)表2023年第一季初步財報時曾宣布削減存儲芯片產(chǎn)量,理由是全球需求低迷,客戶因庫存充足而放慢采購。


SK海力士副董事長Park Jung-ho 3月29日在股東大會上宣布下砍營業(yè)支出計畫,為十年以來頭一遭。他說,該公司過去曾積極投資擴產(chǎn),但現(xiàn)在準備以更具彈性的方式調(diào)整產(chǎn)能策略。他表示,“我們?nèi)ツ甑馁Y本支出多達19兆韓元(相當于146億美元),今年準備刪減一半以上”。


Park以囚徒困境(prisoner‘s dilemma,指個人的選擇不符團體最佳利益)來形容DRAM產(chǎn)業(yè)持續(xù)衰退的現(xiàn)象。他說,“即便我們一再重申不跟進,客戶參與賽局的方式依舊猶如囚徒困境。每當產(chǎn)業(yè)景氣下滑,過剩的芯片供給終將導致價格跌勢惡化。”



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