眾所周知，在繼美國、日本之后，荷蘭也正式出臺了半導體設備的相關禁令，并計劃于2023年9月1日正式生效。

從發(fā)布的規(guī)則來看，主要針對的還是先進工藝的設備等，比如EUV設備、技術是嚴禁出口的，像浸潤式光刻機，則做了更多的要求。

一方面是卡住波長，在193nm以下的不能出口。另外一方面則是卡住DCO值，如果采用193nm波長，且DCO值小于或等于1.50nm的光刻機不準出口。

這樣算下來，EUV光刻機由于采用13.5nm波長，不能出口。而浸潤式光刻機中，NXT1980系列雖然采用了193nm的波長，但DCO值是大于1.5nm的，所以能夠出口。

而非浸潤式的干式DUV光刻機，其DCO值均大于1.5nm，所以可以出口。

從這個禁令來看，消息不算太壞，畢竟NXT1980系列采用193nm波長，精度是38nm，實際最高可以生產(chǎn)7nm芯片，還是留有一線生機的。

不過，荷蘭的禁令中，有另外一個很奇葩規(guī)定，用荷蘭政府的話來說，這個禁令可以解決當前政策下“最重要的漏洞”。

這個“漏洞”是什么？就是對已經(jīng)售出的高端光刻機的限制。以前的政策，對這種已經(jīng)售出的光刻機，是不做約束的。

要知道在荷蘭的這個政策出爐之前，海外已經(jīng)有廠商買到了比較新的光刻機，且正在運行，這些光刻機比規(guī)定能夠出口的NXT1980系列更先進。

但這個出口禁令中，對已經(jīng)售出的，且正在運行的先進的光刻機都做了相應的限制。

如果沒出問題的話，不會遠程鎖定，但一旦出問題了，需要維修，或更換備件等，荷蘭企業(yè)在替客戶進行維修之前，也必須向政府取得許可方可放行。

而光刻機這種設備，有很多的易損件，需要經(jīng)常維護、更換的，并且這種精密儀器的維護，只有ASML才行，這就意味著只要出問題，要維修、更換備件，就非常麻煩了，壞了就等于變成廢鐵。

所以有網(wǎng)友表示，既然荷蘭出臺這樣的政策，那么這些不能用的設備，要允許退貨，ASML必須回收才行，但很明顯，ASML是不可能回收的，這理論上也屬于不可抗拒的因素之一。

從這些禁令可以看出來，現(xiàn)在美國、荷蘭、日本是全方位的封堵國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)，我們只能靠自己，全產(chǎn)業(yè)鏈進行突破才行，特別是光刻機，再不突破，就會一直被卡脖子。