據(jù)韓國媒體Business Korea報導(dǎo)，三星電子DS部門研究員Kang Young-seok表示，三星使用的EUV光罩保護(hù)（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已達(dá)90%，計劃將進(jìn)一步提高至94-96%。

據(jù)了解，光罩保護(hù)膜是一種薄膜，可保護(hù)EUV光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，這對于 5nm或以下節(jié)點(diǎn)制程的先進(jìn)制程技術(shù)的良率表現(xiàn)至關(guān)重要。另外，光罩保護(hù)膜也是一種需要定期更換的消耗品，而由于 EUV光刻設(shè)備的光源波長較短，因此保護(hù)膜需要較薄厚度來增加透光率。其中，透光率90%的意思是只有90%進(jìn)入薄膜的光線能到達(dá)光罩，這可能會影響電路圖案的精度。

三星今年初聲稱已開發(fā)出透光率達(dá)88%的EUV光罩保護(hù)膜，且這款產(chǎn)品已經(jīng)可以量產(chǎn)，而Kang表示三星EUV保護(hù)膜透光率再度增加到了90%。這比更常見的氟化氬（ArF）制程中使用的薄膜透光率（99.3%）要低。

當(dāng)EUV光罩保護(hù)膜在250瓦光源下操作時，每平方公分會產(chǎn)生的5瓦熱量，導(dǎo)致溫度高達(dá)680℃以上，因此除了降低光源衰退外，還必須解決光罩護(hù)膜在EUV過程中遇到的翹曲或斷裂等散熱問題。

據(jù)報導(dǎo)，三星已經(jīng)在主要客戶的部分先進(jìn)EUV代工生產(chǎn)線上導(dǎo)入了EUV光罩護(hù)膜。雖然三星也在DRAM生產(chǎn)線中采用EUV制程，但考慮到生產(chǎn)率和成本，該公司認(rèn)為即使沒有光罩護(hù)膜也可以進(jìn)行內(nèi)存量產(chǎn)。

目前光罩保護(hù)膜主要供應(yīng)商是荷蘭ASML，日本三井化學(xué)、信越化學(xué)，韓國S&S Tech、FST等。

據(jù)Kang透露，三星并沒有使用韓國國內(nèi)供應(yīng)商提供的EUV光罩護(hù)膜，而是與日本三井化學(xué)合作，為唯一供應(yīng)商。

雖然FST和S&S Tech等韓國公司正積極開發(fā)EUV光罩護(hù)膜，但還沒實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。相比之下，臺積電早在2019年開始使用自行開發(fā)的光罩保護(hù)膜，并已在7nm以下制程的生產(chǎn)線使用。2021 年宣布產(chǎn)能比2019 年提高了20 倍。