1、EUV光刻機于近十年間興起

隨著半導體技術的更新?lián)Q代,光刻機也從最開始的g線(436nm)逐漸發(fā)展為近十年間興起的EUV光刻機,從接觸式向接近式,最后演變成步進式為主。EUV光刻機,又稱極紫外線光刻機,是芯片生產工具,是生產大規(guī)模集成電路的核心設備,對芯片工藝有著決定性的影響,其中,小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產。

2、供應鏈龐雜、設備運輸耗時耗力

光刻機是技術壁壘極高的產品,而EUV光刻機制造更是“難上加難”,不僅體現(xiàn)在技術設計方面,還在于零部件供應,一臺頂尖的EUV光刻機包含了10萬多個零部件,全球供應商超過5000家,從光刻機的結構分析來看,美國光源占27%,荷蘭腔體和英國真空占32%,日本材料占27%,德國光學系統(tǒng)占14%。因此,僅從零部件供應來說,光刻機涵蓋的產業(yè)鏈就十分龐大。

同時,從運輸成本上來說,EUV光刻機體積十分龐大,一臺頂級的EUV光刻機重大180噸,需要40個集裝箱來運輸,僅安裝調試的時間就需要一年左右。

3、EUV光刻機單臺價值高達1．5億歐元

由于EUV光刻機的高技術壁壘,也造就了其高價值特征。當前,全球僅有荷蘭的ASML公司有能力生產EUV光刻機。

根據該公司的EUV光刻機售價顯示,2018年以來,該公司的EUV光刻機價格也不斷上揚,2021年7月4日,約為1．54億歐元/臺,折合人民幣11．7億元(以1歐元兌7．6元人民幣換算)。

4、從巨頭“ASML”窺探全球EUV光刻機市場

——ASML壟斷全球EUV光刻機市場

當前,全球僅有荷蘭-ASML公司可生產EUV光刻機,該公司于1997年加入了有英特爾和美國能源部牽頭組建的EUVLLC前沿技術組織,享受EUVLLC的研究成果大大加快了ASML的EUV研發(fā)速度;2010年,公司向一家亞洲芯片制造商的研究機構運送了第一臺極紫外(EUV)光刻工具原型(NXE:3100),標志著光刻新時代的開始;2020年,公司的EUV光刻機進入大批量生產,也為全球唯一一家能量產EUV光刻機的公司。

——EUV光刻機銷量迅猛增長,2020年達31臺

從ASML-EUV光刻機的銷售情況來看,2015-2020年,EUV光刻機銷量由1臺提升至31臺,銷售額也從0．7億歐元增長至44．64億歐元,呈高速增長態(tài)勢。2021年上半年,據公司公布的二季度業(yè)績信息顯示,公司已銷售了16臺EUV光刻機,總價值達24．56億歐元。

從不同光刻機的銷售比重來看,2020年,EUV光刻機的銷售額占比達43%,已成為公司第一大銷售產品。

——EUV光刻機主要銷往亞太地區(qū)、臺積電成最大買家

從公司營收的區(qū)域分布情況來看,2018-2020年,公司在中國臺灣地區(qū)的銷售份額總體提升,在韓國的銷售份額有所下降,在中國大陸的銷售份額維持在15%左右。可以看出,ASML的光刻機主要銷往了亞洲地區(qū):

具體從EUV光刻機的購買商情況來看,2018-2020年,臺積電購買的EUV光刻機最多,合計達41臺,其次是三星、英特爾。而在中國市場,暫未有1臺EUV光刻機購入,而中國在2018年的時候就已經向荷蘭ASML公司采購了光刻機,花費1．2億美元并且等待了兩年,但至今都還沒有收到貨。

——未來發(fā)展方向:從0．33向0．55推進

關于EUV光刻機未來的發(fā)展方向,當前ASML正在探尋從0．33向0．55推進,預計首批High-NA設備(0．55NA)將于2022年下半年交付。