- 怕被市場(chǎng)拋棄，ASML急著擴(kuò)大產(chǎn)能，EUV光刻機(jī)提升210%
- 要造芯片就離不開(kāi)ASML？EUV技術(shù)壁壘雖高，但已經(jīng)有人做到了繞路而行
- 光刻技術(shù)不再是一家獨(dú)大！這些光刻技術(shù)未來(lái)都有可能替代EUV
- 不再需要EUV光刻機(jī) 國(guó)內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線(xiàn)明年落地
- 俄羅斯計(jì)劃2028年造出7nm光刻機(jī)，不使用EUV技術(shù)
- ASML壓力山大：EUV光刻機(jī)，到2nm時(shí)或走到盡頭，壟斷不再
- ASML首席技術(shù)官：High-NA EUV可能成為終點(diǎn)！2025年出貨90臺(tái)EUV、600臺(tái)DUV！
- 挑戰(zhàn)ASML的EUV光刻機(jī)：美國(guó)采用電子束，俄羅斯采用X射線(xiàn)
- ASML CTO：EUV光刻技術(shù)，或在2025年走到盡頭，意味芯片工藝停止？
- EUV光刻機(jī)都搞不定的0.7nm芯片讓美國(guó)造出來(lái)了！是真牛還是吹牛？
