- IBM、美光等巨頭聯手紐約共建100億美元芯片園區，引進EUV光刻機，推動全球芯片產業創新
- 投資100億美元，IBM、美光、應材、東京電子參與High NA EUV中心建設
- 三星自研EUV光罩保護膜透光率已達90%
- 5納米無需EUV，ASML的光刻機將成廢鐵，中國市場成救命稻草
- 價格只有EUV的10%，佳能銷售5nm光刻機，但不賣給中國
- 7nm芯片，不用EUV光刻機一樣造，這就是我們的能力和底氣？
- 2納米無需EUV光刻機，ASML或面臨滅頂之災，難怪加緊對中國出貨了
- 有點搞笑了，佳能5nm納米壓印技術，也離不開EUV光刻機
- 佳能納米壓印技術挑戰EUV，臺積電、聯電、光罩有機會受益
- 佳能5nm NIL光刻機告訴我們，繞過EUV，或許才是出路
